超LSIの製造技術 3巻 超LSIの製造技術(Ⅰ)
￥30,800
税込
商品コード： NKVS-1054203
関連カテゴリ
収録時間 | 40分 |
監修 | 酒井 徹志(日本電信電話(株)) 小切間 正彦((株)日立製作所) |
制作年 | 1990年 |
内容 | 今日のエレクトロニクス産業の発展には、目を見張るものがあります。これを支えてきたのは急速な半導体技術の進歩にほかなりません。ご承知のように、代表的なLSIメモリーのDRAMは、開発競争が激化しています。 このような状況の中で、本ビデオでは、基本的なデバイス技術から最新の微細加工技術を中心に超LSIの製造プロセスを現場撮影とCGを駆使してわかりやすく映像化いたしました。 第3巻 超LSIの製造技術〔Ⅰ〕[40分] 1.シリコン結晶技術 2.不純物ドーピング 3.クリーン化技術 |